专利摘要:

公开号:WO1989000776A1
申请号:PCT/JP1988/000710
申请日:1988-07-15
公开日:1989-01-26
发明作者:Akira Egawa
申请人:Fanuc Ltd;
IPC主号:H01S3-00
专利说明:
[0001] 明 細 高周波放電励起レーザ装置 , 技 術 分 野
[0002] 本発明は金属などの切断加工用大出力用の高周波放電励起 レーザ装置に関し、 特に安定した高周波放電励起ができ る高 周波放電励起レーザ装置に関する。 背 景 技 術
[0003] 高周波励起軸流 C 0 2 レーザは高出力でかつ安定した発振 が可能であり、 使用が拡がりつつある。
[0004] 従来の軸流型高周波放電励起レーザ装置の例を第 9図に示 す。 図において、 1 は放電管であり、 図では 4本の放電管セ グメ ン 卜で構成した例を示している力 出力に応じて種々の 本数が使用される。 2 は全反射鏡、 3 は出力結合鏡であり、 2個の鏡は正確に位置が決められている。 4 はレーザ光を示 す。 放電管の各セグメ ン トにはガスの出入口が設けられてお り、 それは 1台のルーツブローヮ 7 に結合されている。 5及 び 6 ば冷却機であり、 放電及びルーツブ口ヮの圧縮作用で発 熱したレーザガスを冷却する。 放電管及びガス送風管内のガ ス流の方向は矢印で示してある。 8 a、 8 b〜 l l a、 1 1 b は電極であり、 それぞれの高周波電源 1 2、 1 3、 1 4及 び 1 5 に接続されている。 放電管 1 内のガス流は約 1 0 0 m ノ秒であり、 高周波電源 1 2〜 1 5からの高周波電圧によつ て放電が行われ、 レーザビームが発振増幅される。
[0005] 従来の高周波放電励起:レーザ装置の放電管セグメ ン ト 1個 分の回路構成図を第 1 0図に示す。 図において、 1 2 は高周 波電源であり、 1 6 は高周波電源 1 2 と放電管 1 のイ ンピー ダンスマッチングをとるためのマッチング回路である。 高周 波電源 1 2の出力はマツチング面路 1 6を介して放電管 1 の 電極 8 a及び 8 に接続されている。 電極 8 b はアースされ ている。
[0006] し.かし、 このような高周波放電励起レーザ装置では、 レー ザ出'力が数へルツの程度の周期で変動する。 この レーザ出力 変動の状態を第 1 1図に示す。 図において、 横軸は時間であ り、 縦轉はレ一ザ出力である。 図に示すように、 約 8 0 0 W のレーザ出力に対して、 4 0 W程度の出力変動が生じる。 明 の 開 示
[0007] 本発明は、 上記問題点を解決し、 安定した高周波放電励起 ができる高周波放電励起レーザ装置を提供すること目的とす るものである。
[0008] 上記の問題点を解決するために、
[0009] 第 1 の発明では、
[0010] レーザ管に高周波電圧を印加してレーザ発振を生起させる 高周波放電励起レーザ装置において、
[0011] 前記高周波電圧を出力する高周波電源と、
[0012] 該高周波電源と前記レーザ管とのィ ンピ一ダ ンス螯会を行 ' うマッチング面路とを具備し、 ― 該マツチング回路のリ ァクタ ンスの中点を高周波回路のァ ースに接地したこ とを特徴とする高周波放電励起レーザ装置 が、
[0013] 提供される。
[0014] s 第 2 の発明では、
[0015] レーザ管に高周波電圧を印加してレーザ発振を生起させる 高周波放電励起レーザ装置において、
[0016] 前記高周波電圧を出力する高周波電源と、
[0017] 該高周波電源と前記レーザ管とのィ ンピーダンス整合を行 うマ ッチング回路とを具備し、 該マ ッチング回路は平衡回路 であり、
[0018] 前記マッチング回路が直流的に前記高周波電源より絶緣さ れて、 高周波回路のアースに接地されていないことを特徴と する高周波放電励起レーザ装置が、
[0019] 5 提供される。
[0020] 上記の問題点の原因となるのは、 各放電管セグメ ン ト間の ガス流による相互電流と、 各放電管セグメ ン トの支持体によ る相互ィ ンピーダンスの影響による電流である。
[0021] 第 1 の発明では、 これらの相互電流と相互イ ンピ.一ダンス ひ の影響をマッチング面路のリ ァクタ ンスの中点 アースする ことにより-、 な く することができる。
[0022] 第 2 の発明では、 マ ッチング回路を高周波電源から直流的 に絶綠することにより、 これらの電流の影響をな く すことが できる。 図 面 の 簡 単 な 説 明
[0023] 第 1 図は本発明の第 1 の実施例のブロ ッグ図、
[0024] 第 2図ば本発明の第 2の実施例のブ口 ック図、
[0025] 第 3図は本発明の第 3の実施例のブロ ック面、
[0026] 第 4図は本発明の第 4の実施例のブロ ック図、
[0027] 第 5図ば本発明の第 5 の実施例のブロ ック図、
[0028] 第 6図は本発明の実施例による レーザ出力の変動を示す図. 第 7図は放電管セグメ ン ト間の電流を説明するための図、 第 8図は第 7図の等価西路図、
[0029] 第 9図は従来の軸流型高周波放電励起レーザ装置の例を示 す図、
[0030] 第 1 0図は従来の高周波放電励起レーザ装置の放電管セグ メ ン ト 1個分の画路搆成を示す図、
[0031] 第 1 1図ば従来の高周波放電励起レーザ装置のレーザ出力 変動の扰態を示す図である。 発明を実施するための最良の形態
[0032] 以下、 本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
[0033] まず、 放電管セグメ ン ト間の干渉について述べる。 簡単の ため、 2個の電極の場合について説明する。 第. 7図に放電管 セグメ ン ト間の電流を説明するための図を示す。 1 a及び 1 ば放電管セグメ ン トであり、 それぞれ、 電極 8 a、 8 b及 び 9 a、 9 bの電極に高厨波電源 1 2及び 1 3から高周波電 圧が印加される。 Aは放電管セグメ ン ト 1 a と 1 b間でガス 流による枏互電流と、 放電管 1の支持体のイ ンピー ンスに よる相互千涉を示す。
[0034] 第 7図の等価回路を第 8図に示す。 こ こで、 1 , は第 7図 の高周一一波電源 1 2側の回路電流であり、 1 2 は第 7図の高周 波電源 1 3側の回路電流であり、 I 。 は両回路の相互電流と する。 Z。 はガス流による電流及び放電管 1 の支持体のイ ン ピーダンスによる高周波電流の両者を舍めた相互ィ ンビーダ ンスである。 Z H、 Z 1 2は放電管セグメ ン ト l a のイ ンピー ダンスを上下で 2 当分したもの、 Z 2 1、 Z Z 2も同様に放電管 セグメ ン ト 1 b のィ ンピーダンスを 2等分したものである。 こ こで、 高周波電源 1 2 の電圧を e 1、 角周波数を とし、 高周波電源 1 3 の電圧を e 2、 角周波数を ώ) 2 とし、
[0035] e 1 = E 1 s i n <w 1 t
[0036] e 2 = Ε ζ s i n <w 2 t
[0037] とすると、
[0038] I I = V Γ 1 ma) 2 + I nb) 2 + 2 1 ma I mbCOS (W 3 t
[0039] X s i n { ω 4 ί 十 tan—
[0040] 但し、
[0041] ω 3 ω ω 2
[0042] ω 4 ω 十 ω ζ ) / 2
[0043] k =
[0044] - e -
[0045] Z m ~ Z 12
[0046] Z ! = o Z 22
[0047]
[0048] Zm — Z lI-(- Z l2
[0049]
[0050] Z p = Z I 2 "i~ Z 2 Z十 Z o
[0051] である。 o z
[0052] 従つ:て、 e 1及び e 2の中点をァースすると、
[0053] I m b = ― 2 Z t 2 ( t 2 I ― ム 22 ) / [ Z 1
[0054] であり、 一般に z21と Z2Zは等しいので、
[0055] I mb = 0
[0056] となり、
[0057] I 1 = I ma s i n ω 1 t
[0058] I ma= Ει / ( Z 15 + Z i2)
[0059] が得られる。 従って、 e 1 2の中点をアースすることに より、 互いの放電管セグメン ト l a と 1 bの間の干涉を防止 できることが分かる。
[0060] また、 第 8図の等価回路から分かるように、 互いの相互電 流 I 。 は互いのアース回路が共通になつている.ことから流れ る。 従 ^て のアース回路を切り離せば、 栢互電流 I 。 は 流れ 。 これは放電管セグメ ン ト と高周波電源を直流的に 絶縁することによつて達成できる。
[0061] 次に本発明の第 1 の実施例のブロ 'ン'ク図を第 1図に示す。 これは、 先に説明した高周波電源の中点をアースすることを 実現したものである。
[0062] 図において、 1 2 は高周波電源であり、 1 6 は高周波電源
[0063] 1 2 と放電管 1 のマッチングをとるためのマッチング回路で あり、 イ ンダクタ ンス L l、 L 2及びコ ンデンサ C l 、 C 2、 C 3から構成されている。 マ ッチング回路 1 6 は図から明ら かなように、 平衡回路である。 1 は放電管、 8 a及び 8 b は 電極である。
[0064] こ こで先に詳細を説明したように、 コ ンデンサ C 1 と C 2 の中点をアース している。 これによつて、 放電管セグメ ン ト 間の干渉を防ぐことができる。 特にマツチング回路 1 6 は平 衡回路であるので、 放電管 1から高周波電源 1 2 を見て、 ィ ンピーダンスが二分されれば、 どの点をアースしても同等の 効果を得ることができる。
[0065] 第 2図は本発明の第 2 の実施例であり、 第 1 の実施例 (第 1図) と異なるのはマ ッチング回路 1 6 の出力側が 2個のコ ンデンサで構成されており、 このコ ンデンサ C 2、 C 3 の間 をアースしてい.る点である。 これは先に説明したように、 マ ツチング回路 1 6が平衡回路であるために、 マッチング回路 1 6 の入力、 出力いずれでもアースすることができるからで ある。 どちらで、 行うかは部品の実装条件等によって適宜変 更することができる。
[0066] 第 3図に第 3 の実施例を示す。 図において、 1 2 は高周波 電源であり、 1 6 は高周波電源 1 2 と放電管 1 のマ ッチング をとるためのマッチング回路であり、 イ ンダクタ ンスし、 コ ンデンサ C l、 C 2、 C 3から構成されている。 1 は'放電管、 8 a及び 8 b は電極である。 第 1及び第 2 の実施例と同様に、 ユンデンサ .C 1 と C 2 の中点をアースしている。 これによつ て、 放電管セグメ ン ト間の干渉を防ぐことができる。 但し、 ここではマッチング回路は不均衡回路である。
[0067] 第 4図は第 4 の実施例であり、 第 3 11と異なるのはマッチ チング回路 1 6が逆 L型になっている点のみであり、 それ以 外は第 3図と同じである。
[0068] 第 5図に第 5の実施例を示す。 これば先に説明したマッチ ング回路を高周波電源から直流的に絶緣することを実現した 実施例である。 図において、 1 2 は高周波電源であり、 1 6 は高周波電源 1 2 と放電管 1 のマッチングをとるためのマツ チング面路であり、 ィ ンダクタンス L 1、 L 2及びコ ンデン サ C 1、 C 2、 C 3から構成されている。 T 1 は絶籙ト ラン スであり、 高周波電源 1 2 とマッチング回路 1 6を直流的に 絶緣している。 マッチング回路 1 6 は図から明らかなように、 平衡面路である。 1 は放電管、 8 a及び 8 b は電極であり、 電極 8— b はアースされていない。
[0069] この構成では、 第 8図で説明した相互電流 I 。 を流れるル ープがなく、 互いの放電管セグメ ン ト藺の電流の千渉を防止 することができる。
[0070] のような第 1図、 第 2図、 第 3図及び第 4図の構成によ るレーザ岀力のグラフを第 6図に示す。 図において、 模軸は If間であり、 縦軸はレーザ出力である。 図に示すように、 約 8 0 0 Wのレ一ザ出力に対して、 レーザ出力の変動は 1 0 W 以下どなり、 第 1 1図と比較して、 レーザ出力変動が改善さ れていることが分かる。
[0071] また.—、 第 5図の構成による実施例でも、 略第 6図の程度の 効果が得られる。
[0072] 以上説明したように第 1 の発明では、 リ ア ク タ ンスの中点 をアースするように構成したので、 放電管セグメ ン ト間の干 涉がな く なり、 レーザ出力の変動が大幅に減少する。
[0073] また、 第 2 の発明では、 マッチング面路を高周波電源から 直流的に絶緣して、 放電管セグメ ン ト間での電流が流れない ように構成したので、 放電管セグメ ン ト間の干渉がな く なり、 第 1 の発明と同様の効果を有する。
权利要求:
Claims

請 求 の 範 面
1 . レーザ管に高周波電圧を印加してレーザ ¾振を:生起さ
• せる高周波放電励起レーザ装置において、
前記高周波電圧を出力する高周波電源と、 .
該高周波電源と前記レーザ管とのイ ンビ一ダンス整合を行 うマ ッ チ ング画路とを具備し、
該マッチング面路のリァクタ ンスの中点を高周波画路のァ ースに接地したこ とを特徴とする高周波放電励起レーザ装置 c
2 . 前記マ ッ チ ング回路は平行面路であり、 前 Ϊ2放電管か らみた前記マッチング面路のリ アクタ ンスの中点を高周波面 路のアースに接地したことを特徵とする特許請求の範囲第 1 項記載の高周波放電励起レーザ装置。
3 . 前記リ アクタ ンス素子はコ ンデンサであることを特徴 とする特許請求の範囲第 1項記載の高周波放電励起レーザ装 置。
. レーザ管に高周波電圧を印加してレーザ発振を生起さ せる高周波放電励起レーザ装置において、
前記高周波電圧を出力する高周波電源と、
該高周波電源と前記レーザ管とのイ ンビーダンス整合を行 うマッチング面路とを具備し、 該マッチング面路ば平衡面路 であり、
前記マッチング画路が直流的に前記高周波電源より铯緣さ れて、 高周波回路のアースに接地されていないことを特徴と する高周波放電励起レーザ装置。
5 . 前記マ ッ チ ング面路が前記高周波電源から絶縁するの
Q
1 に、 高周波絶緣 ト ラ ンスを使用したことを特徴とする特許請 求の範囲第 4項記戴の高周波敖電励起レーザ装置。
5
.0
5
5
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引用文献:
公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
JPS54103692A|1978-01-16|1979-08-15|Hughes Aircraft Co|Waveguide gas laser|
JPH0635836B2|1984-11-16|1994-05-11|トヨタ自動車株式会社|車輛用内燃機関の吸気過給装置の制御方法|US7151959B2|2000-06-30|2006-12-19|Lifewaves International, Inc.|Systems and methods for assessing and modifying an individual's physiological condition|NL7701389A|1977-02-10|1978-08-14|Stichting Fund Ond Material|Gaslaseropstelling.|
US4494236A|1979-07-26|1985-01-15|Hughes Aircraft Company|Pulsed rf pumped waveguide laser|
US4373202A|1979-09-24|1983-02-08|Walwel, Inc.|RF Excited waveguide gas laser|
US4493087A|1979-12-13|1985-01-08|Walwel, Inc.|RF Excited waveguide gas laser|
US4352188A|1980-07-03|1982-09-28|Hughes Aircraft Company|rf Pumped waveguide laser with inductive loading for enhancing discharge uniformity|
US4618961A|1982-12-16|1986-10-21|Sutter Jr Leroy V|Configuration of electrodes for transversely excited gas lasers|
JPS62152189A|1985-12-26|1987-07-07|Toshiba Corp|Gas laser oscillator|
US4887773A|1986-10-27|1989-12-19|Inco Alloys International, Inc.|Rotary mill with charging system|US5846503A|1990-12-17|1998-12-08|Mobil Oil Corporation|Process for rejuvenating used alkanolamaine solutions|
US5280536A|1991-10-11|1994-01-18|Coherent, Inc.|Method and apparatus for supplying pulsed power to an ophthalmic laser system|
US5278854A|1992-09-18|1994-01-11|The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army|Signal amplification using optically activated bulk semi-insulating GaAs|
DE4232843A1|1992-09-30|1994-03-31|Siemens Ag|Diffusionsgekühlter CO¶2¶-Bandleiterlaser mit reduzierter Zündspannung|
JP3292788B2|1995-03-29|2002-06-17|昌和 牛嶋|放電管用インバータ回路|
US6198762B1|1996-09-26|2001-03-06|Yuri Krasnov|Supersonic and subsonic laser with RF discharge excitation|
US5682400A|1995-09-27|1997-10-28|Krasnov; Alexander V.|Supersonic and subsonic laser with high frequency discharge excitation|
US6636545B2|1996-09-26|2003-10-21|Alexander V. Krasnov|Supersonic and subsonic laser with radio frequency excitation|
JP3815578B2|1996-07-19|2006-08-30|キヤノン株式会社|エキシマレーザー発振装置|
法律状态:
1989-01-26| AK| Designated states|Kind code of ref document: A1 Designated state(s): US |
1989-01-26| AL| Designated countries for regional patents|Kind code of ref document: A1 Designated state(s): DE FR GB |
1989-03-10| WWE| Wipo information: entry into national phase|Ref document number: 1988906098 Country of ref document: EP |
1989-09-13| WWP| Wipo information: published in national office|Ref document number: 1988906098 Country of ref document: EP |
1993-10-06| WWG| Wipo information: grant in national office|Ref document number: 1988906098 Country of ref document: EP |
优先权:
申请号 | 申请日 | 专利标题
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